В Китае запустили серийное производство DUV-литографов для 7-нм чипов
Новый этап технологической независимости
В Шанхае началось серийное производство собственных установок для иммерсионной литографии в глубоком ультрафиолете (DUV). Об этом сообщает издание The Information со ссылкой на два источника, знакомых с программой. Государственная компания развернула выпуск оборудования, которое позволит китайским производителям микросхем выпускать чипы по техпроцессу до 7 нм, снижая зависимость от нидерландской ASML. 
Как работает технология
Иммерсионная DUV-литография использует лазер глубокого ультрафиолета для «печати» микросхем. За один цикл экспозиции системы способны производить микросхемы по нормам 28 нм. Однако при применении технологии многократной литографии (multiple patterning) достигается точность, достаточная для выпуска 7-нм чипов. Такой подход требует большего числа производственных операций, усложняет совмещение слоев и снижает выход годной продукции по сравнению с EUV-литографией, которую использует ASML для самых передовых техпроцессов.
Участники и сроки
В разработке оборудования задействованы команды нескольких китайских компаний. Источники называют поддерживаемый государством стартап Shanghai Yuliangsheng Technology. Крупнейший контрактный производитель SMIC тестирует иммерсионную литографическую систему Yuliangsheng с сентября 2025 года.
Первые серийные установки в 2026 году должны получить:
- SMIC — крупнейший контрактный производитель микросхем в Китае
- Hua Hong Semiconductor
- ChangXin Memory Technologies (CXMT) — производитель памяти
Планируется выпустить около пяти машин в 2026 году и примерно 20 установок к 2027 году. Для сравнения: ASML рассчитывает выпустить около 130 систем в 2026 году и увеличить мощности на 30% в 2027-м, контролируя более 90% мирового рынка.
Компоненты и ограничения
Большинство компонентов новых установок производится внутри страны, однако часть критически важных деталей по-прежнему закупается в Японии. Проблемы с локальными поставщиками ограничивают темпы производства. Кроме того, китайские сканеры пока уступают системам ASML по качеству, производительности, проценту выхода годных кристаллов и общей надежности. Их настройка для серийного выпуска чипов может занять до нескольких месяцев.
Геополитический контекст и реакция рынка
Новость появилась на фоне обсуждения в Конгрессе США законопроекта MATCH Act, который предусматривает запрет не только на поставку, но и на сервисное обслуживание иммерсионных DUV-установок для ряда китайских компаний, включая SMIC, Hua Hong, CXMT, Huawei и YMTC. Если китайские производители смогут заменить оборудование ASML собственными аналогами, эффективность этих ограничений может снизиться.
Рынок быстро отреагировал: акции ASML упали более чем на 7%, что может стать сильнейшим падением с 8 июня. Вместе с ними снизились котировки американских производителей оборудования Applied Materials, Lam Research и KLA. Инвесторы опасаются, что локализация производства литографов в Китае со временем сократит позиции западных поставщиков на одном из крупнейших мировых рынков.
Перспективы
По оценке AI Futures Project, коммерчески конкурентоспособные китайские иммерсионные DUV-системы смогут занять заметную долю рынка лишь в середине 2030-х годов. До этого ASML сохранит почти монопольное положение. Тем не менее, запуск серийного производства создает для КНР суверенную технологическую базу, независимую от воли западных регуляторов. 
