Китай запустил массовое производство собственных DUV-литографов для 7-нм чипов
Технологический прорыв в полупроводниковой отрасли
Неназванная государственная компания из Шанхая начала массовое производство иммерсионных установок для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV), способных создавать микросхемы с техпроцессом 7 нм. Первые поставки оборудования запланированы уже в 2026 году, что становится важным шагом к технологической независимости Китая.
Поставки и объемы производства
В 2026 году планиуется поставить пять DUV-установок, а к 2027-му выпуск машин должен достичь около двадцати единиц в год. Первыми получателями оборудования стали китайские производители микросхем: SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies. Все три компании входят в список организаций, которым, согласно законопроекту MATCH Act, рассматриваемому в Конгрессе США, может быть запрещено сотрудничать с нидерландской ASML.
Опытный образец нового литографа тестируют на площадке SMIC с сентября 2025 года. Как сообщает The Information, разработкой занимается государственный стартап Shanghai Yuliangsheng Technology, которая активно привлекает специалистов из других китайских компаний.
Технологические особенности и ограничения
Иммерсионные DUV-системы позволяют создавать элементы полупроводников по 28-нм техпроцессу за один цикл экспозиции и достигать 7 нм при многократном нанесении рисунка. Однако такой подход сопряжен с увеличением ошибок совмещения слоев и снижением выхода годных изделий. Независимый анализ AI Futures Project показывает, что коммерческое внедрение иммерсионной DUV-литографии в Китае ожидается в середине 2030-х годов.
Большинство компонентов в новых системах производится в Китае, но критически важные детали по-прежнему поставляются из Японии. Задержки местных поставщиков сдерживают объемы производства в текущем году. На фоне этого ASML планирует отгрузить около 130 иммерсионных систем в 2026 году — показатель, сопоставимый с предыдущим годом.
Стратегическое значение и перспективы
Развертывание собственного производства литографов идет на фоне обсуждения в США законопроекта, который может запретить ASML не только поставлять новые иммерсионные системы китайским компаниям, но и обслуживать уже установленное оборудование. Это делает развитие отечественного производства критически важным для сохранения конкурентоспособности китайских чиповых фабрик.
Финансовый директор ASML Роджер Дассен заявил о намерении увеличить производство на 30% в 2027 году и еще на 30% в 2028 году, готовясь к возможному вытеснению со стороны китайских разработок. Китайская версия EUV-литографии, о которой сообщало Reuters в декабре 2025 года, пока остается на стадии прототипа и далека от практической реализации.
