Samsung не спешит с внедрением High-NA сканеров из-за высокой стоимости оборудования

Осторожный подход к дорогостоящим технологиям

Samsung Electronics осознанно замедляет массовое внедрение литографических сканеров High-NA EUV (с высокой числовой апертурой) из-за их крайне высокой стоимости, превышающей $380 млн за установку. Компания предпочитает добиться окупаемости контрактного бизнеса, который остаётся убыточным с 2022 года, прежде чем инвестировать в дорогостоящее оборудование ASML.

По данным издания Chosun Ilbo, на предприятии в Хвасоне ещё в прошлом году был установлен один экспериментальный сканер, а во второй половине добавлен второй. Общая стоимость закупки превысила $670 млн. Несмотря на то, что технически Samsung могла бы начать использование High-NA EUV уже сейчас для сокращения технологических проходов при изготовлении чипов, такой переход повлек бы дополнительные расходы и не представляется целесообразным.

Текущие показатели производства

Контрактный бизнес Samsung в нынешнем состоянии мог бы выйти на прибыльность к четвёртому кварталу 2026 года, однако инвестиции во внедрение High-NA EUV точно помешают это сделать. Уровень выхода годной продукции при выпуске 2-нм чипов на конвейере компании достигает 55%, что уже очень близко к принятому в отрасли рубежу в 60%, считающемуся приемлемым для серийного производства.

Стратегия использования нового оборудования

Первые полученные Samsung High-NA сканеры (Twinscan EXE:5200B), ожидаемые в начале 2026 года, будут использоваться преимущественно для пилотных проектов и разработок, включая подготовку к производству Exynos 2600. Компания планирует запустить производство по технологии 1,4 нм (SF1.4) не ранее 2029 года.

Контрактное подразделение Samsung сперва хочет не только встать на ноги с точки зрения окупаемости, но и привлечь больше крупных клиентов. Данное оборудование сможет оправдать себя в рамках техпроцессов тоньше 2 нм, однако руководство компании предпочитает максимально долго обходиться без таких инвестиций.

Позиция конкурентов

В отличие от Samsung, конкурирующая Intel активнее внедряет High-NA EUV, используя его при изготовлении некоторой части мобильных процессоров Panther Lake с технологией Intel 18A. TSMC также проявляет осторожность, планируя внедрение High-NA не ранее 2029 года, так как её техпроцессы A12 и A13 не потребуют перехода на подобные литографические сканеры.