Россия представила электронно-лучевой литограф для производства чипов 150-нм
Отечественная разработка в микроэлектронике
Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) совместно с белорусским предприятием «Планар» разработал опытные образцы электронно-лучевого литографа (ЭЛЛ) с проектными нормами 150 нм. Эта технология соответствует уровню начала 2000-х годов и позволяет выпускать чипы, аналогичные поколениям Pentium 4 и Athlon XP. 
Безмасковая технология и область применения
Установка выполняет безмасковую литографию — формирует рисунок микросхем прямиком на кремниевых подложках сфокусированным пучком электронов без дорогостоящих фотошаблонов. Такой подход особенно востребован для прототипирования, научных исследований и мелкосерийного производства специализированной электроники, включая космическую отрасль.
Электронно-лучевая литография уступает фотолитографии по скорости и не подходит для массового производства, однако остается важным инструментом для НИОКР. Два опытных образца уже проходят комплексные испытания, продлительностью около четырех месяцев.
Поэтапная стратегия освоения
Разработка является частью поэтапной программы Правительства РФ по достижению технологической независимости в микроэлектронном машиностроении. Ранее ЗНТЦ успешно создал отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм, который уже запущен в продажу и находится в мелкосерийном производстве.
- 350 нм — запущен в производство (2024–2025 гг.)
- 150–130 нм — опытные образцы ЭЛЛ разработаны, серийный выпуск планируется к 2027 году
- 90 нм — старт разработки следующего поколения (~2026–2028 гг.)
Финансирование и перспективы
Для реализации программы выделяются крупные бюджетные средства порядка 2 млрд рублей на создание отечественных химических материалов и электронно-чувствительных резистов, необходимых для работы новых линий. Это позволит сократить зависимость от импортных комплектующих в критически важной отрасли.
Создание литографа для производства чипов размером до 150 нм ознаменовывает первый шаг страны к суверенному производству микроэлектроники. Ранее в 2000 году в России было создано первое производство полупроводниковых приборов с использованием отечественных компонентов, что стало прорывом для отечественной промышленности.